硅基蒸鍍?cè)O(shè)備
應(yīng)用場(chǎng)景：適用于AR/VR近眼顯示、智能穿戴等Micro OLED面板量產(chǎn)
產(chǎn)品應(yīng)用
– 基板尺寸8英寸和12英寸
– Cluster Type
– 標(biāo)準(zhǔn)化
– 模塊化
– 成膜均勻性高
– 光學(xué)對(duì)位
– 運(yùn)營穩(wěn)定
技術(shù)優(yōu)勢(shì)
– CCD高精密對(duì)位技術(shù)
– 模塊化設(shè)計(jì)，可以滿足客戶多樣化定制需求
– 高信賴性，可實(shí)現(xiàn)長時(shí)間穩(wěn)定稼動(dòng)生產(chǎn)
| 硅基蒸鍍?cè)O(shè)備 | 規(guī)格參數(shù) |
|---|---|
| 基板 | 8英寸 or 12英寸 wafer |
| 生產(chǎn)節(jié)拍 | 最快5分鐘 (區(qū)分鍍層) |
| 生產(chǎn)時(shí)間 | ≥144小時(shí) |
| 膜厚均勻性：有機(jī)材料 | ≤2% (片內(nèi))；≤3%(片間) |
| 膜厚均勻性：金屬材料 | ≤3% (片內(nèi))；≤2%(片間) |
| 速率穩(wěn)定性（0.01?/s- 3?/s）有機(jī)材料 | Host ≤±2%，@1.0?/s |
| 速率穩(wěn)定性（0.01?/s- 3?/s）Dopant | ≤±3%，@0.01?/s |
| 速率穩(wěn)定性（0.01?/s- 3?/s）金屬材料 | ≤±2%，@1.0?/s；≤±3%，@0.01?/s |
| 光學(xué)對(duì)位 | ≤±3μm（CCD） |
| 系統(tǒng)控制 | 控制系統(tǒng)PLC，PC (GUI S/W) |
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